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1200℃滑動(dòng)雙溫區(qū)/多溫區(qū)PECVD系統(tǒng)

產(chǎn)品用途:產(chǎn)品專(zhuān)業(yè)性:PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜。

關(guān)鍵詞:

圖片名稱(chēng)

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  • 產(chǎn)品描述
  • 技術(shù)參數(shù)
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    • 商品名稱(chēng): 1200℃滑動(dòng)雙溫區(qū)/多溫區(qū)PECVD系統(tǒng)
    • 商品編號(hào): 1034429608717279232

    產(chǎn)品用途:產(chǎn)品專(zhuān)業(yè)性:PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜。

    銷(xiāo)售熱線:15122725930 

     

    產(chǎn)品用途:

    產(chǎn)品專(zhuān)業(yè)性:

    PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜。

     

    產(chǎn)品組成:

    PECVD系統(tǒng)配置:

    1.1200度開(kāi)啟式雙溫區(qū)真空管式爐

    2.等離子射頻電源

    3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)

    4.真空系統(tǒng)(可選配中真空或高真空)  

     

    產(chǎn)品特點(diǎn):

    生長(zhǎng)溫度低;沉積速率快;成膜質(zhì)量好,適用范圍廣,設(shè)備簡(jiǎn)單。

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