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  • 產(chǎn)品描述

  • 真空氣氛箱式爐是一種可在真空或可控氣氛環(huán)境下進行高溫熱處理的精密實驗設(shè)備。該設(shè)備采用高潔凈度的石英腔體，配合精密的溫度控制系統(tǒng)與氣體氛圍調(diào)控系統(tǒng)，能夠滿足對材料潔凈度與處理氣氛有嚴苛要求的工藝。其廣泛應用于金屬熱處理、鋰電池材料、半導體及電子材料研發(fā)等領(lǐng)域。

     

    系統(tǒng)參數(shù)：

    產(chǎn)品名稱

    		真空氣氛爐

    產(chǎn)品型號

    		ZKX-200F

    最高溫度

    		1100℃

    工作溫度

    		≤1000℃

    爐膛尺寸

    		φ210/φ200×385mm

    恒溫區(qū)

    		φ200×200mm

    承重范圍

    		≤3Kg

    爐膽材質(zhì)

    		石英

    加熱元件

    		電阻絲

    測溫元件

    		熱電偶K偶

    升溫速率

    		0-1000℃≤10℃/min;1000℃~1100℃≤5℃/min

    控溫方式

    		智能化30段可編程控制(PID獨立控制調(diào)節(jié))

    控溫精度

    		±1℃

    真空度

    		真空度：≥1.0×103Pa;中真空度：≥1×102Pa(用機械泵8L)

    額定電壓

    		220V

    額定功率

    		10KW

    爐體尺寸

    		570×915×640mm(深×寬×高)

    標準配置

    		氣路總成一套(含真空壓力表),石英膽一個，隔熱堵一個，鉤子一把，手套一副

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